Výrobcastredný čistiaci motoropisuje čistiace schopnosti zariadenia
Čistenie základnej dosky
Ako základná hardvérová výbava celého zariadenia je najpravdepodobnejšie, že nahromadenie prachu na základnej doske spôsobí problémy a na základnej doske sa tiež s najväčšou pravdepodobnosťou nahromadí veľké množstvo prachu.Pri čistení základnej dosky v strojovni elektrinou najskôr odstráňte všetky konektory a očíslujte odpojené zariadenie, aby ste predišli zámene.Potom odskrutkujte skrutky upevňujúce hlavnú dosku, vyberte hlavnú dosku a pomocou kefky na vlnu odstráňte prach z každej časti.Počas prevádzky musí byť sieťové zariadenie power-1 riadne vyčistené on-line, aby sa predišlo dotyku patch komponentov na povrchu základnej dosky alebo spôsobeniu uvoľnenia komponentov a falošného spájkovania.Ak je príliš veľa prachu, môžete ho vyčistiť bezvodým alkoholom.Prvky na meranie teploty (termistory) na hlavnej doske musia byť opatrené špeciálnou ochranou, ako je ich vopred tienenie, aby sa predišlo zlyhaniu ochrany hlavnej dosky spôsobenému poškodením týchto prvkov.Ak je v slote na základnej doske príliš veľa prachu, môžete ho vyčistiť koženým tigrom alebo sušičom vlasov.Ak dôjde k oxidácii, môžete do otvoru vložiť papier s určitou tvrdosťou a utrieť ho tam a späť (hladký povrch je smerom von).
Čistenie povrchu krabice
Prach na vnútornom povrchu šasi je možné utrieť suchou vlhkou handričkou.Všimnite si, že mokrá handrička by mala byť čo najsuchšia, aby sa predišlo zvyškovým vodným škvrnám.Po utretí ho treba vysušiť elektrickým fénom.Lepší čistiaci účinok môže priniesť len zvládnutie prostriedkov údržby používaných na živé čistenie.
Čistenie periférnych zástrčiek a zásuviek
Pri týchto periférnych zásuvkách sa plávajúca pôda spravidla odstraňuje kefou a potom sa čistí elektrickým sušičom vlasov.Ak je olejová škvrna, možno ju odstrániť pomocou odmasťovacej vaty namočenej v bezvodom alkohole.
Poznámka: Na čistenie možno použiť aj čistiaci prostriedok, ale čistiaci prostriedok by mal byť neutrálny, pretože kyslé látky spôsobia koróziu zariadenia a prchavosť čistiaceho prostriedku musí byť lepšia.
Čas odoslania: 30. novembra 2021